マスクレス露光装置

装置番号	93
カテゴリ	リソグラフィー関連装置描画
主たる用途	マスクレス露光
装置仕様・備考	・光源：g線 h線、i線・露光量（最大）：30,000 mJ/cm2 ・試料サイズ：5 ～125 mm角・描画データ形式：dxf、gdsII、cif、gerber ・実効描画線幅：孤立パターン 1ミクロン、L&Sパターン 5ミクロン　※フォトレジストの厚さに依存・実効併せ精度：5ミクロン
型番	MLA100
メーカー	Heiderberg
装置利用料	4,000円／時間
消耗品費など追加料金
設置場所	1F材料作製室
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