装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
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光学顕微鏡2 | 35 |
寸法測定 表面観察 観察 評価・観察装置 | 1F材料作製室 | 微細パターン観察（光学） | エクリプスL200AF | NIKON | 2,500円／時間 |
| 蒸着装置1 | 38 |
成膜 成膜装置 | 1F材料作製室 | 各種金属膜の蒸着（抵抗加熱） | E-250 | 島津製作所 | 2,500円／時間 | |
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スピンコーター3 | 41 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜装置 熱処理装置 | 1F材料作製室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円／時間 |
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マスクレス露光装置 | 93 |
リソグラフィー関連装置 描画 | 1F材料作製室 | マスクレス露光 | MLA100 | Heiderberg | 4,000円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー2 | 97 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 無機薬品洗浄 研磨・研削装置 薬品調合 | 1F材料作製室 | 各種材料のエッチング / 無機薬品洗浄 / CMPスラリー、薬品調合 | Dan-Takuma | 2,500円／時間 | |
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CMP装置 | 106 |
研磨 研磨・研削装置 | 1F材料作製室 | Si、SiO2、各種金属のCMP、Si、ガラスなどの研削、各種材料表面の平坦化 | RDP-500 | 不二越機械 | 4,000円／時間 |
| 卓上研磨装置 | 106 |
研磨 研磨・研削装置 | 1F材料作製室 | 基板表面の平坦化、基板の薄化 | IM-P2 | IMT | 4,000円／時間 | |
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ブラシ洗浄装置 | 107 |
洗浄 洗浄・乾燥装置 | 1F材料作製室 | CMP後の洗浄、各種基板の洗浄 | DT-PCMP6-M | ダルトン | 4,000円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー3 | 108 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー4 | 109 |
リソグラフィー関連装置 洗浄 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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ホットプレート3 | 110 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1F材料作製室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
| レーザー描画装置 | 114 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1F材料作製室 | レーザー露光 | DWL66+ | Heiderberg | 4,000円／時間 | |
| 無電解メッキ | 116 |
成膜 成膜装置 | 1F材料作製室 | Cu無電解メッキ | 2,500円／時間 |