装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
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イオン注入装置 | 1 |
イオン注入 | 1Fプロセス室 | P、B、Arのイオン注入 | IMX-3500 | ULVAC | 6,000円／時間 |
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減圧CVD装置 | 2 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | poly-Si成膜 | 272-M200 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
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PE-CVD装置 | 3 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | SiO2、SiN、a-Si、SiON成膜 | PD-200NL | サムコ | 6,000円／時間 |
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スパッタ装置2 | 5 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料成膜 | E-200S | キヤノンアネルバ | 4,000円／時間 |
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電気炉１号炉 | 7 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ） | M200, M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
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電気炉2号炉 | 8 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ、ウェット） | M200、M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
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電気炉3号炉 | 9 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 金属材料熱処理 | M200、M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
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電気炉4号炉 | 10 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ）、 シリコンドーパント拡散 | M200、M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
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電気炉５号炉 | 11 |
成膜 成膜装置 熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ）、各種無機材料熱処理 | M200, M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
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高速熱処理炉１ | 13 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化、各種材料熱処理 | RTP-6 | ULVAC | 4,000円／時間 |
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Si系材料 ドライエッチング装置 | 15 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | フッ素系ガスによるドライエッチング Si、SiO2、SiNなど | RIE-101iPH （フッ素ガス仕様） | サムコ | 6,000円／時間 |
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Metal系材料ドライエッチング装置 | 16 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | 塩素系ガスによるドライエッチング Si、Ａｌ、Al2O3、GaN、セラミックなど | RIE-101iPH（塩素ガス仕様） | サムコ | 6,000円／時間 |
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縮小投影露光装置 | 19 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1Fフォト室 | i線露光（ステッパー） | FPA-3000i5＋ | キヤノン | 8,000円／時間 |
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両面マスクアライナー | 20 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1Fフォト室 | 露光（コンタクトアライナー） | MA-6 | ズースマイクロテック | 4,000円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー（HF） | 22 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄、シリコン酸化膜エッチング | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー（一般酸） | 23 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料のエッチング、各種基板の洗浄 | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
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RCA洗浄槽 | 24 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄 | ダルトン | 2,500円／時間 | |
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アッシャー1 | 25 |
ドライエッチング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト除去 | 1Fプロセス室 | フォトレジストの除去 | RP-510 | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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スピンドライヤー | 26 |
乾燥 洗浄 洗浄・乾燥装置 | 1Fプロセス室 | 4インチウエハの乾燥 | SPD160RN | コクサン | 2,500円／時間 |
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スピンコーター1 | 28 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜 成膜装置 熱処理 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | DELTA80 | ズースマイクロテック | 2,500円／時間 |
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スピンコーター2 | 29 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 塗布 成膜装置 熱処理 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円／時間 |
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クリーンオーブン | 30 |
乾燥 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの乾燥 | DE410 | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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ホットプレート1 | 31 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1Fフォト室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
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ホットプレート2 | 32 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1Fフォト室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー1 | 33 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1Fフォト室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | HSS-2000 | UNION | 2,500円／時間 |
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DUV顕微鏡 | 34 |
寸法測定 観察 評価・観察装置 | 1Fプロセス室 | 微細パターン観察（光学） | INM300 DUV | KLA-Tencor | 2,500円／時間 |
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光学顕微鏡2 | 35 |
寸法測定 表面観察 観察 評価・観察装置 | 1F材料作製室 | 微細パターン観察（光学） | エクリプスL200AF | NIKON | 2,500円／時間 |
| 蒸着装置1 | 38 |
成膜 成膜装置 | 1F材料作製室 | 各種金属膜の蒸着（抵抗加熱） | E-250 | 島津製作所 | 2,500円／時間 | |
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スピンコーター3 | 41 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜装置 熱処理装置 | 1F材料作製室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー | 49 |
洗浄・乾燥装置 薬品実験 | 2Fマイクロ化技術室 | 有機溶剤による基板の洗浄 | 2,500円／時間 | ||
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無機ドラフトチャンバー | 50 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 薬品実験 | 2Fマイクロ化技術室 | 各種無機材料のエッチング / 各種基板の洗浄 | 2,500円／時間 | ||
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ダイサー＋マウンター | 54 |
切断 後工程装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 各種基板のダイシング | DAD322 | DISCO | 2,500円／時間 |
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簡易SEM | 55 |
表面・断面観察 観察 評価・観察装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 微細パターン観察（電子） | JCM-5700 | 日本電子 | 2,500円／時間 |
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FIB/SEM複合装置 | 57 |
表面・断面観察 評価・観察装置 | 2F状態評価室 | 微細パターン観察（電子） | JIB-4600F | JEOL | 4,000円／時間 |
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ワイヤーボンダー | 60 |
ワイヤー ボンダ― 後工程装置 | 2Fシステム化技術室 | Au、Alワイヤーボンディング | 7476D | WEST-BOND ハイソル | 2,500円／時間 |
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プロービングシステム | 62 |
特性評価 評価・観察装置 | 2F設計開発室 | トランジスタなどのデバイス電気的評価 | アジエントテクノロジー＋ベクターセミコン | 2,500円／時間 | |
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高電圧カーブトレーサ＋プローバー | 63 |
特性評価 評価・観察装置 | 2Fマイクロ化技術室 | トランジスタなどのデバイス電気的評価（高電圧） | CS-3300 | 岩通＋ベクターセミコン | 2,500円／時間 |
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四探針測定器1 | 64 |
抵抗測定 評価・観察装置 | 1F炉体室 | 電気抵抗測定 | Model RT-70 RG-5＋TCR | ナプソン | 1,000円／時間 |
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厚膜CVD | 73 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | SiO2、PSG、BSG、BPSG、SiOC成膜 | PD-100ST | サムコ | 4,000円／時間 |
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ALD装置 | 74 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | Al2O3成膜 | Savannah S100-4PVP | ケンブリッジ | 4,000円／時間 |
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高速深堀RIE | 75 |
エッチング ドライエッチング装置 成膜 | 1Fプロセス室 | シリコンの深堀加工（ボッシュ） | 800iPB | サムコ | 6,000円／時間 |
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XeF2エッチャー | 76 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | シリコンの高選択エッチング | 自作 | 自作 | 4,000円／時間 |
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超臨界乾燥洗浄装置 | 77 |
乾燥 洗浄 洗浄・乾燥装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 微細構造基板の乾燥 | LSCRD403 | 隆祥産業 | 2,500円／時間 |
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クイックコーター | 80 |
成膜 成膜装置 | 2Fマイクロ化技術室 | SEM観察試料表面へのAu、Pt成膜 | SC-701MKⅡ | サンユー電子 | 2,500円／時間 |
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小型チューブ炉 | 82 |
成膜 熱処理 熱処理装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 熱酸化、各種材料熱処理 | KTF050N1 | KOYO | 2,500円／時間 |
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オーブン | 83 |
乾燥 熱処理装置 | 2Fマイクロ化技術室 | ダイボンディング後のエポキシ乾燥 | DX302 | Yamato | 1,000円／時間 |
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光学顕微鏡 | 84 |
表面観察 観察 評価・観察装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 微細構造観察（光学） | ECLIPSE | NIKON | 1,000円／時間 |
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半導体パラメーターアナライザー３ ＋プローバー | 86 |
特性評価 評価・観察装置 | 2F設計開発室 | トランジスタなどのデバイス電気的評価 | B1500A | Agilent ＋MICRONICS JAPAN | 2,500円／時間 |
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マスクレス露光装置 | 93 |
リソグラフィー関連装置 描画 | 1F材料作製室 | マスクレス露光 | MLA100 | Heiderberg | 4,000円／時間 |
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エリプソメーター | 94 |
膜厚測定 評価・観察装置 | 1F炉体室 | 極薄透明薄膜の膜厚測定 | LSE | ガートナ | 2,500円／時間 |