装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
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無機ドラフトチャンバー（HF） | 22 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄、シリコン酸化膜エッチング | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー（一般酸） | 23 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料のエッチング、各種基板の洗浄 | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
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RCA洗浄槽 | 24 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄 | ダルトン | 2,500円／時間 | |
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無機ドラフトチャンバー | 50 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 薬品実験 | 2Fマイクロ化技術室 | 各種無機材料のエッチング / 各種基板の洗浄 | 2,500円／時間 | ||
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無機ドラフトチャンバー2 | 97 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 無機薬品洗浄 研磨・研削装置 薬品調合 | 1F材料作製室 | 各種材料のエッチング / 無機薬品洗浄 / CMPスラリー、薬品調合 | Dan-Takuma | 2,500円／時間 |