九州工業大学 マイクロ化総合技術センター

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装置一覧

装置写真 装置名 装置番号 用途/カテゴリ 設置場所 仕様 型番 メーカー 装置利用料
電気炉1号炉 7 熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 熱酸化(ドライ) M200, M300 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
電気炉2号炉 8 熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 熱酸化(ドライ、ウェット) M200、M300 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
電気炉3号炉 9 熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 金属材料熱処理 M200、M300 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
電気炉4号炉 10 熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 熱酸化(ドライ)、 シリコンドーパント拡散 M200、M300 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
電気炉5号炉 11 成膜
成膜装置
熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 熱酸化(ドライ)、各種無機材料熱処理 M200, M300 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
高速熱処理炉1 13 熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 熱酸化、各種材料熱処理 RTP-6 ULVAC 4,000円/時間
スピンコーター1 28 イオン注入・不純物ドーピング装置
リソグラフィー関連装置
レジスト塗布
成膜
成膜装置
熱処理
熱処理装置
1Fフォト室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 DELTA80 ズースマイクロテック 2,500円/時間
スピンコーター2 29 イオン注入・不純物ドーピング装置
リソグラフィー関連装置
レジスト塗布
塗布
成膜装置
熱処理
熱処理装置
1Fフォト室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 MS-B150 ミカサ 2,500円/時間
クリーンオーブン 30 乾燥
熱処理装置
1Fフォト室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの乾燥 DE410 ヤマト科学 2,500円/時間
スピンコーター3 41 イオン注入・不純物ドーピング装置
リソグラフィー関連装置
レジスト塗布
成膜装置
熱処理装置
1F材料作製室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 MS-B150 ミカサ 2,500円/時間
小型チューブ炉 82 成膜
熱処理
熱処理装置
2Fマイクロ化技術室 熱酸化、各種材料熱処理 KTF050N1 KOYO 2,500円/時間
オーブン 83 乾燥
熱処理装置
2Fマイクロ化技術室 ダイボンディング後のエポキシ乾燥 DX302 Yamato 1,000円/時間
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