九州工業大学 マイクロ化総合技術センター
Home
センター概要
組織概要
当センターの特長
スタッフ紹介
研究開発
利用手順
機器利用料金表
装置一覧
試作・技術事例
利用者安全教育(制限ページ)
各種帳票・資料ダウンロード
リスキリングセミナー
製造プロセス【前工程】セミナー
集積回路設計開発セミナー
過年度実施実績
セミナー参加仮申込
News
FAQ
問い合わせ
HOME
»
事例一覧
単分子誘導体を実装したメモリセル開発(㈱マテリアルゲート様)
関連資料
単分子誘導体を実装したメモリセル開発
主な利用装置
縮小投影露光装置
マスクレス露光装置
イオン注入装置
電気炉1号炉
電気炉2号炉
電気炉3号炉
電気炉4号炉
電気炉5号炉
PE-CVD装置
ALD装置
スパッタ装置2
スパッタ装置3
Si系材料 ドライエッチング装置
Metal系材料ドライエッチング装置
高速深堀RIE
RCA洗浄槽
FIB/SEM複合装置
← 事例一覧に戻る
ページトップ
Page Top