公開講座:産学連携製造中核人材育成セミナー

「半導体デバイス製造プロセス(前工程)」

クリーンルーム内で、自から手によりMOSFETと簡単な論理回路を作製しながら、半導体の微細加工技術の基礎を学ぶことができる4日間のコースです。光学露光装置をはじめ、電気炉やCVD、イオン注入やエッチング等の延べ20台の製造装置をクリーンルーム内で実際に操作し、4インチウエハ上に、MOSFETや、 CMOSインバータ回路, Ring Oscillator等の回路を作製し、これらの測定までを体験できます。

2020年度:公開講座パンフレット[pdf]

 
 
スケジュール

第1日 午前:オリエンテーション 午後:酸化工程、Poly-Si堆積工程
第2日 午前:リソグラフィ工程  午後:エッチング工程
第3日 午前:イオン注入工程   午後:コンタクト形成工程
第4日 午前:配線形成工程    午後:試作デバイスの電気的特性測定

時間割(詳細)一覧表[pdf]

開催日程(予定)

1)2020年度 第1回(A日程) 2020年 6月23日(火)-26日(金) (開催中止)
2)2020年度 第2回(B日程) 2020年 7月 7日(火)-10日(金) (開催中止)
3)2020年度 第3回(C日程) 2020年 8月 4日(火)- 7日(金) (開催中止)
4)2020年度 第4回(D日程) 2020年 9月 8日(火)-11日(金) (開催中止)
5)2020年度 第5回(E日程) 2020年10月20日(火)-23日(金) (開催済み)
6)2020年度 第6回(F日程) 2020年11月10日(火)-13日(金) 
7)2020年度 第7回(G日程) 2020年12月 8日(火)-11日(金)  (申込終了)
8)2020年度 第8回(H日程) 2021年 1月 5日(火)- 8日(金) 
9)2020年度 第9回(I日程)  2021年 2月 2日(火)- 5日(金)
10)2020年度 第10回(J日程) 2021年 3月 2日(火)- 5日(金)

申込方法

各日程の4週間前までにお申し込み下さい。(直前でも受入可能な場合がありますので、お問い合わせください)お申し込みは下記エクセルファイルをご利用ください。

セミナー申込み書 [xlsx]

受講料

133,900円(税込)

定員

各日程 最大12名(コロナ対応のため、当面8名までで実施)

社会人セミナー実施におけるコロナ対策について [pdf]