装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
イオン注入装置 | 1 |
イオン注入 | 1Fプロセス室 | P、B、Arのイオン注入 | IMX-3500 | ULVAC | 6,000円／時間 |
|
減圧CVD装置 | 2 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | poly-Si成膜 | 272-M200 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
|
PE-CVD装置 | 3 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | SiO2、SiN、a-Si、SiON成膜 | PD-200NL | サムコ | 6,000円／時間 |
|
スパッタ装置2 | 5 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料成膜 | E-200S | キヤノンアネルバ | 4,000円／時間 |
|
電気炉１号炉 | 7 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ） | M200, M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
|
電気炉2号炉 | 8 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ、ウェット） | M200、M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
|
電気炉3号炉 | 9 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 金属材料熱処理 | M200、M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
|
電気炉4号炉 | 10 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ）、 シリコンドーパント拡散 | M200、M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
|
電気炉５号炉 | 11 |
成膜 成膜装置 熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化（ドライ）、各種無機材料熱処理 | M200, M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円／時間 |
|
高速熱処理炉１ | 13 |
熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化、各種材料熱処理 | RTP-6 | ULVAC | 4,000円／時間 |
|
Si系材料 ドライエッチング装置 | 15 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | フッ素系ガスによるドライエッチング Si、SiO2、SiNなど | RIE-101iPH （フッ素ガス仕様） | サムコ | 6,000円／時間 |
|
Metal系材料ドライエッチング装置 | 16 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | 塩素系ガスによるドライエッチング Si、Ａｌ、Al2O3、GaN、セラミックなど | RIE-101iPH（塩素ガス仕様） | サムコ | 6,000円／時間 |
|
無機ドラフトチャンバー（HF） | 22 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄、シリコン酸化膜エッチング | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
|
無機ドラフトチャンバー（一般酸） | 23 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料のエッチング、各種基板の洗浄 | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
|
RCA洗浄槽 | 24 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄 | ダルトン | 2,500円／時間 | |
|
アッシャー1 | 25 |
ドライエッチング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト除去 | 1Fプロセス室 | フォトレジストの除去 | RP-510 | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
|
スピンドライヤー | 26 |
乾燥 洗浄 洗浄・乾燥装置 | 1Fプロセス室 | 4インチウエハの乾燥 | SPD160RN | コクサン | 2,500円／時間 |
|
DUV顕微鏡 | 34 |
寸法測定 観察 評価・観察装置 | 1Fプロセス室 | 微細パターン観察（光学） | INM300 DUV | KLA-Tencor | 2,500円／時間 |
|
厚膜CVD | 73 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | SiO2、PSG、BSG、BPSG、SiOC成膜 | PD-100ST | サムコ | 4,000円／時間 |
|
ALD装置 | 74 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | Al2O3成膜 | Savannah S100-4PVP | ケンブリッジ | 4,000円／時間 |
|
高速深堀RIE | 75 |
エッチング ドライエッチング装置 成膜 | 1Fプロセス室 | シリコンの深堀加工（ボッシュ） | 800iPB | サムコ | 6,000円／時間 |
|
XeF2エッチャー | 76 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | シリコンの高選択エッチング | 自作 | 自作 | 4,000円／時間 |
|
スパッタ装置3 | 99 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | 各種材料の成膜 | EB-1000 | キャノンアネルバ | 4,000円／時間 |