両面マスクアライナー
両面マスクアライナー
| 装置番号 | 20 |
|---|---|
| カテゴリ |
リソグラフィー関連装置 露光 |
| 主たる用途 | 露光（コンタクトアライナー） |
| 装置仕様・備考 | ・両面アライメント可能 ・g線露光 ・基板サイズ： φ4インチウエハ 25 mm角基板対応 ※不定形基板にも対応可能 ・対応基板厚≦1.5mm（バキュームコンタクト使用時）,≦3.0mm（その他露光コンタクトモード使用時） ・対応マスク：4インチおよび5インチ角、厚さ 0.09インチ ・アライメント可動範囲：X軸±10mm,Y軸±5mm,θ軸±5° ・露光モード： ソフトコンタクト（ウェハの下部から真空を引きウェハを固定しながら、機械的圧力だけでマスクに押しつけるモード） ハードコンタクト（ウェハの下部より窒素を吹き付け、ウエハをより強くマスクに押しつけるモード） バキュームコンタクト（マスクとウェハとの間を真空にして隙間をきわめて小さくできるモード）から選択可能 プロキシミティ露光（マスクとウェハとの間にギャップを保って露光するモード）が可能（プロキシミティ・ギャップ範囲：1～300μm(1μmステップで設定可） ・アライメント精度 表面露光：1ミクロン 両面（裏面）露光：5ミクロン ・最大露光エリア≦W150mm ・露光タイマー：デジタル式、最大時間999秒、最小目盛り0.1秒 |
| 型番 | MA-6 |
| メーカー | ズースマイクロテック |
| 装置利用料 | 4,000円／時間 |
| 消耗品費など追加料金 | |
| 設置場所 |
1Fフォト室  |