九州工業大学 マイクロ化総合技術センター
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カテゴリ
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用途
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成膜
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洗浄
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熱処理
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現像
研磨
膜厚測定
薬品実験
薬品洗浄
薬品調合
表面・断面観察
表面観察
観察
設計
酸化拡散熱処理
露光
設置場所
1Fフォト室
1Fプロセス室
1F材料作製室
1F炉体室
1F無機薬品洗浄室
1F薬品調合
2Fシステム化技術室
2Fマイクロ化技術室
2F状態評価室
2F設計技術室
2F設計開発室
電気炉5号炉
電気炉5号炉
装置番号
11
カテゴリ
成膜
成膜装置
熱処理装置
酸化拡散熱処理
主たる用途
熱酸化(ドライ)、各種無機材料熱処理
装置仕様・備考
・熱処理炉
・横型炉、石英チューブ
・基板の種類:半導体材料
・基板サイズ:
φ2インチウエハ:3枚
φ3インチウエハ:3枚
φ4インチウエハ:5枚
25 mm角基板:5枚
・ガス種:O2、N2
・基板温度:<1050℃
型番
M200, M300
メーカー
光洋リンドバーグ
装置利用料
4,000円/時間
消耗品費など追加料金
設置場所
1Fプロセス室
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