九州工業大学 マイクロ化総合技術センター
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カテゴリ
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用途
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現像
研磨
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薬品実験
薬品洗浄
薬品調合
表面・断面観察
表面観察
観察
設計
酸化拡散熱処理
露光
設置場所
1Fフォト室
1Fプロセス室
1F材料作製室
1F炉体室
1F無機薬品洗浄室
1F薬品調合
2Fシステム化技術室
2Fマイクロ化技術室
2F状態評価室
2F設計技術室
2F設計開発室
無電解メッキ(2026.11導入予定)
無電解メッキ
装置番号
116
カテゴリ
成膜
成膜装置
主たる用途
Cu無電解メッキ
装置仕様・備考
型番
メーカー
装置利用料
2,500円/時間
消耗品費など追加料金
設置場所
1F材料作製室
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