装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 膜厚測定器２ | 96 |
膜厚測定 評価・観察装置 | 1F炉体室 | 透明材料の白色干渉型膜厚測定 | FR-ES VIS/NIR | θmetrisis | 2,500円／時間 | |
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膜厚測定器 | 96 |
膜厚測定 評価・観察装置 | 1F炉体室 | 透明薄膜の白色干渉型膜厚測定 | M5000 | ナノスペック | 2,500円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー2 | 97 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 無機薬品洗浄 研磨・研削装置 薬品調合 | 1F材料作製室 | 各種材料のエッチング / 無機薬品洗浄 / CMPスラリー、薬品調合 | Dan-Takuma | 2,500円／時間 | |
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スパッタ装置3 | 99 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | 各種材料の成膜 | EB-1000 | キャノンアネルバ | 4,000円／時間 |
| 3次元光学顕微鏡2 | 100 |
表面観察 観察 評価・観察装置 | 1Fフォト室 | 微細構造観察（光学） | VHX-X1 | Keyence | 2,500円／時間 | |
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3次元光学顕微鏡 | 100 |
表面観察 観察 評価・観察装置 | 1Fフォト室 | 微細構造観察（光学） | VHX-7000 | Keyence | 2,500円／時間 |
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オートプローバー | 101 |
特性評価 評価・観察装置 | 2Fシステム化技術室 | トランジスタなどのデバイス電気的評価 | B1500A+HSP-150 | Agilent＋HISOL | 2,500円／時間 |
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共焦点レーザー顕微鏡 | 102 |
表面観察 観察 評価・観察装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 3次元微細構造観察 | VK-X3000 | キーエンス | 2,500円／時間 |
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表面形状測定器3 | 104 |
段差測定 評価・観察装置 | 1F炉体室 | パターンの段差測定（触針式） | ET200A | 小坂研究所 | 2,500円／時間 |
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エポキシダイボンダー | 105 |
ダイボンディング 後工程装置 | 2Fシステム化技術室 | プリント基板へのチップ実装 | 7200CR | ハイソル | 2,500円／時間 |
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CMP装置 | 106 |
研磨 研磨・研削装置 | 1F材料作製室 | Si、SiO2、各種金属のCMP、Si、ガラスなどの研削、各種材料表面の平坦化 | RDP-500 | 不二越機械 | 4,000円／時間 |
| 卓上研磨装置 | 106 |
研磨 研磨・研削装置 | 1F材料作製室 | 基板表面の平坦化、基板の薄化 | IM-P2 | IMT | 4,000円／時間 | |
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ブラシ洗浄装置 | 107 |
洗浄 洗浄・乾燥装置 | 1F材料作製室 | CMP後の洗浄、各種基板の洗浄 | DT-PCMP6-M | ダルトン | 4,000円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー3 | 108 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー4 | 109 |
リソグラフィー関連装置 洗浄 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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ホットプレート3 | 110 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1F材料作製室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
| レーザー描画装置 | 114 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1F材料作製室 | レーザー露光 | DWL66+ | Heiderberg | 4,000円／時間 | |
| 電界放出型走査電子顕微鏡（EDX） | 115 |
観察 評価・観察装置 | 1Fフォト室 | 微細構造観察（電子）、元素分析 | 4,000円／時間 | |||
| 無電解メッキ | 116 |
成膜 成膜装置 | 1F材料作製室 | Cu無電解メッキ | 2,500円／時間 |