スパッタ装置3 キャノンアネルバ製 EB-1000 装置利用料金 学内利用者 ¥2000/H 学外利用者 ¥3200/H 商品コード: 99 カテゴリー: プロセス室(1階CR) 説明 説明 装置仕様 ・各種金属膜の堆積 2inchターゲット Φ4inch以下の基板対応 備考 関連商品 縦型拡散炉 無機ドラフトチャンバー(HF) 高速熱処理炉1 電気炉5号炉