説明
装置仕様
・リンおよびホウ素のイオン注入
・エネルギー範囲:20〜300keV
・最大ビーム電流:11B+(BF3ガス使用)400μA以上,31P+(PH3ガス使用)900μA以上
・最小ビーム電流:150nA
・基板サイズ:4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形試料
備考
装置利用料金
学内利用者 ¥2,000/H
学外利用者 ¥3,200/H
装置仕様
・リンおよびホウ素のイオン注入
・エネルギー範囲:20〜300keV
・最大ビーム電流:11B+(BF3ガス使用)400μA以上,31P+(PH3ガス使用)900μA以上
・最小ビーム電流:150nA
・基板サイズ:4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形試料
備考