説明
装置仕様
・基板サイズ:φ4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形試料
・ガス種:PH3、BF3、Ar
・エネルギー範囲:10〜 300keV
・最大ビーム電流:
B+(BF3ガス使用)150nA~400μA
BF2+(BF3ガス使用)150nA~400μA
P+(PH3ガス使用)150nA~900μA
Ar+(Arガス使用)150nA~400μA
・最小ドーズ量:1×1012 cm-2
備考
装置利用料金
¥6,000/H
関連消耗品など
J1:イオン注入装置除害剤
※PH3およびBF3ガス使用時間(分)
装置仕様
・基板サイズ:φ4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形試料
・ガス種:PH3、BF3、Ar
・エネルギー範囲:10〜 300keV
・最大ビーム電流:
B+(BF3ガス使用)150nA~400μA
BF2+(BF3ガス使用)150nA~400μA
P+(PH3ガス使用)150nA~900μA
Ar+(Arガス使用)150nA~400μA
・最小ドーズ量:1×1012 cm-2
備考