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ALD装置

Savannah S100-4PVP ケンブリッジ

装置利用料金
¥4,000/H

 

関連消耗品など

TMA:TMAガス
※XeF2ガス使用回数(回)
J74: 74ALD装置除害剤
※Al2O3膜堆積時間(分)

商品コード: 74 カテゴリー:

説明

装置仕様

・堆積膜種:Al2O3
・加熱型ALD
・到達真空度:2 Pa
・最高基板温度:300℃
・使用可能ガス:TMA、H2O
・基板サイズ、枚数
φ4インチウエハ:1枚
不定形基板(φ4インチ以内)
・膜厚分布:±10%程度
備考