高速熱処理炉１

説明

装置仕様
・高速熱処理用
・雰囲気：N2、H2（4%）、大気、真空（～10-4 Pa）
・温度範囲：～1000℃
・最大加熱速度：10℃/sec
・基板サイズ：φ4インチ 以内
・基板厚さ：< 2 mm
・温度プロファイルデータ取得可能
備考