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高速熱処理炉1

ULVAC製 RTP-6 2010年3月導入

装置利用料金
学内利用者 ¥2,000/H

学外利用者 ¥4,000/H

商品コード: 13 カテゴリー:

説明

装置仕様
・極薄酸化膜形成用
・雰囲気:ガスフロー中、大気中、真空中
・温度範囲:~1000℃
・最大加熱速度:10℃/sec(SiCコート付きカーボンサセプタ使用)
・基板サイズ:4インチ

備考