高速熱処理炉１ ULVAC製 RTP-6 2010年3月導入 装置利用料金 学内利用者 ¥2,000/H 学外利用者 ¥4,000/H 商品コード: 13 カテゴリー: プロセス室（1階CR） 説明 説明 装置仕様 ・極薄酸化膜形成用 ・雰囲気：ガスフロー中、大気中、真空中 ・温度範囲：～1000℃ ・最大加熱速度：10℃/sec(SiCコート付きカーボンサセプタ使用） ・基板サイズ：4インチ 備考 関連商品 イオン注入装置 縦型拡散炉 高速深掘RIE スパッタ装置２
