厚膜CVD サムコ PD-100ST 装置利用料金 学内利用者 ¥2,000/H 学外利用者 ¥3,200/H 商品コード: 73 カテゴリー: プロセス室(1階CR) 説明 説明 装置仕様 TEOSによるSiO2の堆積 備考 関連商品 無機ドラフトチャンバー(HF) スパッタ装置3 イオン注入装置 電気炉3号炉