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PE-CVD装置

サムコ製 PD-220NL 2010年3月導入

装置利用料金
¥6,000/H

関連消耗品など
J3:PE-CVD装置除害剤
※SiH4、NH3、CF4ガス使用時間(分)
s18再生Siウエハ
※プレでポジション利用時

商品コード: 3 カテゴリー:

説明

装置仕様
・堆積膜種:SiO2、SiN、a-Si、SiON
・使用可能ガス:SiH4、NH3、N2O、Ar、N2、O2、CF4(クリーニング用)
・基板サイズ、枚数
φ4インチウエハ:3枚
φ6インチウエハ:1枚
φ8インチウエハ:1枚
・基板厚さ:< 2 mm
・最大成膜厚:1~5 ミクロン
※膜種、堆積温度による
・膜厚分布:±10%程度

備考