XeF2エッチャー 自作 自作 装置利用料金 学内利用者 ¥2,000/H 学外利用者 ¥4,000/H 商品コード: 76 カテゴリー: プロセス室（1階CR） 説明 説明 装置仕様 Siの等方性ドライエッチング 備考 関連商品 ＰＥ－ＣＶＤ装置 減圧ＣＶＤ装置 電気炉４号炉 RCA洗浄槽
