スパッタ装置2

キャノンアネルバ製 E-200S 2010年3月導入

装置利用料金
学内利用者 ¥2,000/H

学外利用者 ¥3,200/H

商品コード: 5 カテゴリー:

説明

装置仕様
・各種金属膜の堆積
・ロードロック式
・スパッタガス:Ar,N2
・リアクティブスパッタが可能
・磁性体用カソード:有り
・同時スパッタ:可能
・基板回転機構:有り
・逆スパッタ機構:有り
・電源:RF電源2,DC電源1
・基板温度:~300℃
・基板水冷機構:有り
・ターゲットサイズ:2インチ
・基板サイズ:4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形基板

備考
Alターゲットのみ貸し出し可能です.共同研究については,共同研究を行っているセンター教員の了解を得て,共同研究先のセンター教員が保有するターゲットを借用することが可能です.それ以外につきましては,各自ターゲットをご用意ください.



お知らせ: 中核人材(プロセス)教育 参加者募集中!!

2020年度の開催については、E日程(10/20-23)以降について、申し込みを受け付けております。状況によっては開催キャンセルとなる可能性がありますので、ご了承の上、申し込みをお願いいたします。

   

 

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