Metal系材料ドライエッチング装置

サムコ製 RIE-101iPH 塩素ガス仕様 2010年3月導入

装置利用料金
学内利用者 ¥2,000/H

学外利用者 ¥3,200/H

商品コード: 16 カテゴリー:

説明

装置仕様
・Si,SiO2,SiN以外材料のエッチング
・GaNのエッチングが可能
・放電方式:ICP
・ロードロック式
・到達真空度:10-4Pa台
・基板サイズ:4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形基板

備考



お知らせ: 中核人材(プロセス)教育 参加者募集中!!

2020年度の開催については、E日程(10/20-23)以降について、申し込みを受け付けております。状況によっては開催キャンセルとなる可能性がありますので、ご了承の上、申し込みをお願いいたします。

   

 

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