説明
装置仕様
・フォトレジストなどの液体材料塗布後の乾燥
・使用可能温度：30～260℃（精度±0.3℃@260℃）
・基板サイズ：400 mm角以下
クリーンオーブン
ヤマト科学製 DE410 2010年3月導入
装置利用料金
¥2,500/H
装置利用料金
¥2,500/H
装置仕様
・フォトレジストなどの液体材料塗布後の乾燥
・使用可能温度：30～260℃（精度±0.3℃@260℃）
・基板サイズ：400 mm角以下
