減圧ＣＶＤ装置 光洋リンドバーグ製 272-M200 装置利用料金 学内利用者 ¥2,000/H 学外利用者 ¥3,200/H 商品コード: 2 カテゴリー: プロセス室（1階CR） 説明 説明 装置仕様 ・poly-Si堆積 備考 関連商品 高速深掘RIE 厚膜CVD 縦型拡散炉 イオン注入装置
