マスクレス露光装置

説明

装置仕様
・光源：g線 h線、i線
・試料サイズ：5 ～125 mm角
・描画データ形式：dxf、gdsII、cif、gerber
・実効描画線幅：孤立パターン 1ミクロン、L&Sパターン 5ミクロン
※フォトレジストの厚さに依存
・実効併せ精度：5ミクロン
備考