マスクレス露光装置 ネオアーク製 PALET 装置利用料金 \4000/H 商品コード: 95 カテゴリー: 材料作製室(1階) 説明 説明 装置仕様 ・光源:g線 h線、i線 ・試料サイズ:25 mm角以下 ・描画データ形式:dxf、gdsII ・最小描画線幅: 5ミクロン ※フォトレジストの厚さに依存 ・併せ精度:10ミクロン 備考 関連商品 CMP装置 オーブン1 オーブン2 有機ドラフトチャンバー4