装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
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縮小投影露光装置 | 19 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1Fフォト室 | i線露光（ステッパー） | FPA-3000i5＋ | キヤノン | 8,000円／時間 |
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両面マスクアライナー | 20 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1Fフォト室 | 露光（コンタクトアライナー） | MA-6 | ズースマイクロテック | 4,000円／時間 |
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アッシャー1 | 25 |
ドライエッチング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト除去 | 1Fプロセス室 | フォトレジストの除去 | RP-510 | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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スピンコーター1 | 28 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜 成膜装置 熱処理 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | DELTA80 | ズースマイクロテック | 2,500円／時間 |
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スピンコーター2 | 29 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 塗布 成膜装置 熱処理 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円／時間 |
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ホットプレート1 | 31 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1Fフォト室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
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ホットプレート2 | 32 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1Fフォト室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー1 | 33 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1Fフォト室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | HSS-2000 | UNION | 2,500円／時間 |
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スピンコーター3 | 41 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜装置 熱処理装置 | 1F材料作製室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円／時間 |
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マスクレス露光装置 | 93 |
リソグラフィー関連装置 描画 | 1F材料作製室 | マスクレス露光 | MLA100 | Heiderberg | 4,000円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー3 | 108 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー4 | 109 |
リソグラフィー関連装置 洗浄 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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ホットプレート3 | 110 |
ベーク リソグラフィー関連装置 | 1F材料作製室 | フォトレジスト乾燥 | TH-900 | アズワン | 1,000円／時間 |
| レーザー描画装置 | 114 |
リソグラフィー関連装置 露光 | 1F材料作製室 | レーザー露光 | DWL66+ | Heiderberg | 4,000円／時間 |