装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
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減圧CVD装置 | 2 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | poly-Si成膜 | 272-M200 | 光洋リンドバーグ | 4,000円/時間 |
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PE-CVD装置 | 3 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | SiO2、SiN、a-Si、SiON成膜 | PD-200NL | サムコ | 6,000円/時間 |
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スパッタ装置2 | 5 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料成膜 | E-200S | キヤノンアネルバ | 4,000円/時間 |
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電気炉5号炉 | 11 |
成膜 成膜装置 熱処理装置 酸化拡散熱処理 | 1Fプロセス室 | 熱酸化(ドライ)、各種無機材料熱処理 | M200, M300 | 光洋リンドバーグ | 4,000円/時間 |
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スピンコーター1 | 28 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜 成膜装置 熱処理 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | DELTA80 | ズースマイクロテック | 2,500円/時間 |
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スピンコーター2 | 29 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 塗布 成膜装置 熱処理 熱処理装置 | 1Fフォト室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円/時間 |
| 蒸着装置1 | 38 |
成膜 成膜装置 | 1F材料作製室 | 各種金属膜の蒸着(抵抗加熱) | E-250 | 島津製作所 | 2,500円/時間 | |
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スピンコーター3 | 41 |
イオン注入・不純物ドーピング装置 リソグラフィー関連装置 レジスト塗布 成膜装置 熱処理装置 | 1F材料作製室 | レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 | MS-B150 | ミカサ | 2,500円/時間 |
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厚膜CVD | 73 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | SiO2、PSG、BSG、BPSG、SiOC成膜 | PD-100ST | サムコ | 4,000円/時間 |
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ALD装置 | 74 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | Al2O3成膜 | Savannah S100-4PVP | ケンブリッジ | 4,000円/時間 |
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クイックコーター | 80 |
成膜 成膜装置 | 2Fマイクロ化技術室 | SEM観察試料表面へのAu、Pt成膜 | SC-701MKⅡ | サンユー電子 | 2,500円/時間 |
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スパッタ装置3 | 99 |
成膜 成膜装置 | 1Fプロセス室 | 各種材料の成膜 | EB-1000 | キャノンアネルバ | 4,000円/時間 |
| 無電解メッキ | 116 |
成膜 成膜装置 | 1F材料作製室 | Cu無電解メッキ | 2,500円/時間 |
