九州工業大学 マイクロ化総合技術センター

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装置一覧

装置写真 装置名 装置番号 用途/カテゴリ 設置場所 仕様 型番 メーカー 装置利用料
減圧CVD装置 2 成膜
成膜装置
1Fプロセス室 poly-Si成膜 272-M200 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
PE-CVD装置 3 成膜
成膜装置
1Fプロセス室 SiO2、SiN、a-Si、SiON成膜 PD-200NL サムコ 6,000円/時間
スパッタ装置2 5 成膜
成膜装置
1Fプロセス室 各種無機材料成膜 E-200S キヤノンアネルバ 4,000円/時間
電気炉5号炉 11 成膜
成膜装置
熱処理装置
酸化拡散熱処理
1Fプロセス室 熱酸化(ドライ)、各種無機材料熱処理 M200, M300 光洋リンドバーグ 4,000円/時間
スピンコーター1 28 イオン注入・不純物ドーピング装置
リソグラフィー関連装置
レジスト塗布
成膜
成膜装置
熱処理
熱処理装置
1Fフォト室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 DELTA80 ズースマイクロテック 2,500円/時間
スピンコーター2 29 イオン注入・不純物ドーピング装置
リソグラフィー関連装置
レジスト塗布
塗布
成膜装置
熱処理
熱処理装置
1Fフォト室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 MS-B150 ミカサ 2,500円/時間
蒸着装置1 38 成膜
成膜装置
1F材料作製室 各種金属膜の蒸着(抵抗加熱) E-250 島津製作所 2,500円/時間
スピンコーター3 41 イオン注入・不純物ドーピング装置
リソグラフィー関連装置
レジスト塗布
成膜装置
熱処理装置
1F材料作製室 レジスト・SOG・ポリイミドなどの塗布 MS-B150 ミカサ 2,500円/時間
厚膜CVD 73 成膜
成膜装置
1Fプロセス室 SiO2、PSG、BSG、BPSG、SiOC成膜 PD-100ST サムコ 4,000円/時間
ALD装置 74 成膜
成膜装置
1Fプロセス室 Al2O3成膜 Savannah S100-4PVP ケンブリッジ 4,000円/時間
クイックコーター 80 成膜
成膜装置
2Fマイクロ化技術室 SEM観察試料表面へのAu、Pt成膜 SC-701MKⅡ サンユー電子 2,500円/時間
スパッタ装置3 99 成膜
成膜装置
1Fプロセス室 各種材料の成膜 EB-1000 キャノンアネルバ 4,000円/時間
無電解メッキ 116 成膜
成膜装置
1F材料作製室 Cu無電解メッキ 2,500円/時間
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