装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
Si系材料 ドライエッチング装置 | 15 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | フッ素系ガスによるドライエッチング Si、SiO2、SiNなど | RIE-101iPH （フッ素ガス仕様） | サムコ | 6,000円／時間 |
|
Metal系材料ドライエッチング装置 | 16 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | 塩素系ガスによるドライエッチング Si、Ａｌ、Al2O3、GaN、セラミックなど | RIE-101iPH（塩素ガス仕様） | サムコ | 6,000円／時間 |
|
無機ドラフトチャンバー（HF） | 22 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄、シリコン酸化膜エッチング | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
|
無機ドラフトチャンバー（一般酸） | 23 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料のエッチング、各種基板の洗浄 | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
|
RCA洗浄槽 | 24 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄 | ダルトン | 2,500円／時間 | |
|
高速深堀RIE | 75 |
エッチング ドライエッチング装置 成膜 | 1Fプロセス室 | シリコンの深堀加工（ボッシュ） | 800iPB | サムコ | 6,000円／時間 |
|
XeF2エッチャー | 76 |
エッチング ドライエッチング装置 | 1Fプロセス室 | シリコンの高選択エッチング | 自作 | 自作 | 4,000円／時間 |