装置一覧
| 装置写真 | 装置名 | 装置番号 | 用途/カテゴリ | 設置場所 | 仕様 | 型番 | メーカー | 装置利用料 |
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無機ドラフトチャンバー（HF） | 22 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄、シリコン酸化膜エッチング | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー（一般酸） | 23 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | 各種無機材料のエッチング、各種基板の洗浄 | HSS-2000HF | ダン産業 | 2,500円／時間 |
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RCA洗浄槽 | 24 |
ウェットエッチング装置 エッチング 洗浄 洗浄・乾燥装置 薬品洗浄 | 1Fプロセス室 | シリコンウエハの洗浄 | ダルトン | 2,500円／時間 | |
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スピンドライヤー | 26 |
乾燥 洗浄 洗浄・乾燥装置 | 1Fプロセス室 | 4インチウエハの乾燥 | SPD160RN | コクサン | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー1 | 33 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1Fフォト室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | HSS-2000 | UNION | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー | 49 |
洗浄・乾燥装置 薬品実験 | 2Fマイクロ化技術室 | 有機溶剤による基板の洗浄 | 2,500円／時間 | ||
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無機ドラフトチャンバー | 50 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 薬品実験 | 2Fマイクロ化技術室 | 各種無機材料のエッチング / 各種基板の洗浄 | 2,500円／時間 | ||
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超臨界乾燥洗浄装置 | 77 |
乾燥 洗浄 洗浄・乾燥装置 | 2Fマイクロ化技術室 | 微細構造基板の乾燥 | LSCRD403 | 隆祥産業 | 2,500円／時間 |
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無機ドラフトチャンバー2 | 97 |
ウェットエッチング装置 洗浄・乾燥装置 無機薬品洗浄 研磨・研削装置 薬品調合 | 1F材料作製室 | 各種材料のエッチング / 無機薬品洗浄 / CMPスラリー、薬品調合 | Dan-Takuma | 2,500円／時間 | |
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ブラシ洗浄装置 | 107 |
洗浄 洗浄・乾燥装置 | 1F材料作製室 | CMP後の洗浄、各種基板の洗浄 | DT-PCMP6-M | ダルトン | 4,000円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー3 | 108 |
リソグラフィー関連装置 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |
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有機ドラフトチャンバー4 | 109 |
リソグラフィー関連装置 洗浄 洗浄・乾燥装置 現像 | 1F材料作製室 | 現像 / 有機溶剤による基板の洗浄 | GF1L-15TNZ | ヤマト科学 | 2,500円／時間 |