九州工業大学 マイクロ化総合技術センター

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センターの特長

設計から製造・評価まで一貫して行える、国内有数の研究開発拠点

本物のクリーンルームでの実習を通じて、次世代の半導体技術者を育てる人材育成拠点

当センターは、大学の枠を超えたオープンな「半導体基盤プラットフォーム」です。Class 100のフォト室・Class 1,000のプロセス室を備えた4インチCMOS試作ラインと、各種MEMS装置・評価解析装置を保有し、企業・公的機関・大学など全国の皆さまの研究開発を支援しています。あわせて、クリーンルームでの実習を中心とした社会人向けセミナーを開催し、全国から受講者が集まる高度半導体人材の育成拠点としての役割も担っています。

保有装置
100台以上
前工程から後工程・評価解析まで一式
装置利用団体数
281社・研究室
企業・公的機関・教育機関(学内・学外)
CR装置稼働率
99.3%
2025年度実績
セミナー参加者
902名
実参加(遠隔 2,357名)

センターの特長 一覧(各項目をクリックすると詳細へ移動します)

CENTERセンター全体の特長

特長1設計から試作・評価・分析まで、ワンストップで研究開発

設計データを作成するシステムから、マスク作成、ウエハプロセス(前工程)、チップ組み立て(後工程)を行う製造装置、さらに電子顕微鏡をはじめとする各種評価・解析装置やLSIテスターまで、100台以上の装置を保有しています。1階はLSI試作用のクリーンルーム、2階は設計・評価・測定と後工程のフロアで構成されており、デバイス開発に必要な工程をセンター内で一貫して行えます。
4インチのCMOS試作ラインに加えてMEMS構造素子の作製も可能で、3次元微細構造による各種センサーやバイオケミカル系の流路、さらにトランジスタとMEMSを融合したデバイスの開発にも対応します。

1階:LSI試作(クリーンルーム)

1階:プロセス室、フォト室、材料作製室(第2クリーンルーム)、機械室

2階:設計・評価・測定

2階:設計・評価・測定 ― 評価設備、後工程設備、電子顕微鏡、大講義室ほか

特長2国内大学でも数施設のみの本格的クリーンルームと、安定した装置稼働

当センターはクリーンルーム専用建屋として設計されています。フォト室はClass 100、プロセス室はClass 1,000のクリーン度を持ち、床下は完全ダウンフロー型のグレーチング構造です。周辺には超純水製造設備、屋外には廃液処理プラントと緊急除害塔、液化窒素設備を備え、中央監視室で集中管理しています。これにより、イオン注入やシリコン堆積、メタルドライエッチングなど、特殊ガスを使用する装置も安全に運用しています。
日々の保守管理により、2025年度のクリーンルーム装置稼働率は99.3%。いつでも安定して稼働する装置をご利用いただけます。

クリーンルームとバックヤード設備

特長3産学官・地域と連携した、九州の半導体エコシステムの拠点

当センターは、学内の教育・研究を支えるだけでなく、国立高専機構や近隣大学、自治体、地域の研究開発拠点、九州地区の半導体コンソーシアムと幅広く連携しています。「半導体人材育成・イノベーション推進特区」の中核として、地域企業の研究開発支援と企業向け社会人教育(リカレント教育)の両面から、九州・全国の半導体産業を支えています。

マイクロ化総合技術センターの活動展開(連携図)

マイクロ化総合技術センターの活動展開(画像クリックで拡大)

R&D SUPPORT研究開発支援の特長

ご利用者自身が装置を操作する「みずからコース(機器利用)」と、センタースタッフが試作を代行する「おまかせコース(代理試作)」の2つのコースで、企業・大学・公的機関の研究開発を支援しています。

特長1自由度が高く、安心して使える研究開発環境

研究開発内容の報告義務なし研究内容の報告義務がないため、企業の機密性の高い開発にも安心してご利用いただけます。
緩やかな材料制限クリーンルーム内で利用できる試料・材料の制限が緩やかで、ご要望に比較的柔軟に対応できます。
安全な薬品処理作業廃液をドラフトチャンバーにそのまま流せる設備で、安全に薬品処理を行えます。
予約なしでの装置利用予約なしでの装置利用も可能なため(※)、実験スケジュールに合わせてご利用いただけます。※装置の空き状況により、ご利用いただけない場合があります

特長2専門技術スタッフによるサポート

丁寧かつ迅速なトレーニング初めて装置を利用する際は、スタッフが操作方法を丁寧にお教えします。装置の扱いに不慣れな方でも安心してご利用いただけます。
クリーンルーム内にスタッフ常駐困ったときは、その場で気軽にお声掛けください。
事前相談にも対応教授をはじめ、アカデミックな知見を持つスタッフが事前のご相談に対応します。

特長3来所不要の「おまかせコース(代理試作)」

専任スタッフが試作を代行来所いただかなくても、装置の操作から試作、評価まで一括してお引き受けします。
最短1日で試作工程数・内容によっては、最短1日で試作が完了します。
ウエハ1枚・1工程から少量・部分工程の試作から、MOSFETやMEMSなど工程数の多いデバイス試作まで対応します。

おまかせコース(代理試作)の詳細はこちら

特長4全国の企業・研究機関が利用する開かれた拠点

これまでに、北海道から沖縄まで全国281の企業・研究室にご利用いただいています。利用収入の約7割は企業からのもので、大学・高専・公的機関の研究とあわせ、産業界の開発現場を幅広く支えています。

機器利用・代理試作 利用者の分布

機器利用・代理試作 利用者の分布

利用収入の内訳

利用収入の内訳

SEMINARセミナー(教育・実習)の特長

特長1「半導体設計・製造」を実践的に学べる教育・実習拠点

研究開発にも使われている本物のクリーンルーム(フォト室Class 100・プロセス室Class 1,000)と4インチ試作ラインで学べる、体験型のセミナーです。半導体の設計から製造プロセス、評価までの一連の工程を実際に体験することで、座学だけでは得られない実践的な知識を身につけられます。

縮小投影露光装置(ステッパー)での実習

縮小投影露光装置(ステッパー)の操作実習

ドラフトチャンバーでの薬品処理実習

ドラフトチャンバーでの薬品処理実習

特長2ニーズに沿った柔軟なプログラム

クリーンルームでの実習を中心とした4日間のリアルセミナーのほか、1日VIPコース、遠隔型、出前型など、受講者や企業・団体の皆さまのニーズに合わせて柔軟にプログラムを編成できます。新人教育から技術者のスキルアップまで、目的に応じた内容をご相談ください。

特長3修了後はデジタルバッジを発行

セミナー修了者には、修了を証明するデジタルバッジを発行できます。デジタルバッジは、受講内容や修得したスキルをオンラインで証明できる電子的な修了証で、SNSやメールの署名、履歴書などでご活用いただけます。

デジタルバッジ:CMOS製造プロセス プロフェッショナル

CMOS製造プロセス
プロフェッショナル

デジタルバッジ:半導体集積回路設計 プロフェッショナル

半導体集積回路設計
プロフェッショナル

デジタルバッジ:CMOS製造プロセス 遠隔型セミナー(初級)

CMOS製造プロセス
遠隔型セミナー(初級)

特長4全国からの参加実績

参加者は北海道から沖縄まで全国に広がり、これまでに実参加902名、遠隔2,357名の方にご参加いただいています。20代の若手技術者が半数以上を占め、主に新人教育にご活用いただいていますが、経営者層や文系出身の方にもご受講いただいています。また、業種も半導体関連にとどまらず、材料・薬品・ガス、製造機器、電子部品、公的機関・教育機関など多岐にわたります。

社会人実習セミナー 参加者の分布

社会人実習セミナー 参加者の分布

参加者の年齢

参加者の年齢

参加者の業種

参加者の業種

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