2025 年 3 月 21 日より、材料作製室クリーンブースの利用が可能となりました。

材料作製室クリーンブースはクラス 10,000 の CMP 室と、クラス 1,000 の第２フォト室で構成されております。
CMP 室には、新しく導入した CMP 装置とブラシ洗浄装置などを設置しております。
第２フォト室には、マスクレス露光装置や光学顕微鏡、有機ドラフトチャンバーなどを設置しております。

その他設置装置は下記リンクの「材料作製室」に掲載しております：
装置一覧

ぜひご活用ください！

（CMP 室写真：手前がブラシ洗浄装置、奥が CMP 装置）

（第２フォト室写真：正面左がマスクレス露光装置、正面が光学顕微鏡、正面右がスピンコーター）