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LSI一貫製造設備


● クリーンルーム

当クリーンルームは、面積360㎡、Class100〜1000、ダウンフローの本格的な半導体製造ラインです。 保有設備は、マスク製作用EB描画機(JEOL)、ステッパー(ニコンG線)、インプラ(アルバック)、プラズマCVD(アネルバ)、ドライエッチャー(アネルバ)等一貫試作ラインとして整備しており、皆様のご利用をお待ちしております。半導体以外の微細加工技術の応用試作も可能です。

● 半導体研究活動

新回路研究、新構造デバイス研究、新材料応用研究 等の検証試作、評価を行っています。 企業内ではなかなかチャレンジし難い新しいアイデア等、当C.Rを企業内研究所としてご利用頂けます。


● 実践教育活動

半導体の実践物作り教育として、学生実験は簡単なダイオードの試作と評価、大学院生はLSIの研究試作教育を行っています。 社会人教育として、企業の新人教育プログラム(半導体物作り体験版)、高度教育プログラム(半導体研究チャレンジ版)が、準備されています。
 企業内での新人教育、リフレッシュ教育、半導体の中味を経験させたい、等などにご活用下さい。

●連絡先・お問い合わせ

九州工業大学 マイクロ化総合技術センター 試作部
Addr. : 〒820-8502 福岡県飯塚市川津680-4
Tel. : 0948-29-7587
Fax. : 0948-29-7586


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