用途:[酸化 拡散 熱処理] 装置一覧

 ・ドライ酸化用
 ・Siウェーハのみ
 ・拡散用
 ・Siウェーハのみ
 ・極薄酸化膜形成用
 ・φ4inch基板対応
 ・ドライおよびウェット酸化用
 ・Siウェーハのみ
 ・材料限定無し
 ・熱処理用
 ・15mm角以下のチップ対応
 ・シンタリング用
 ・金属はAl限定
 ・ゲート酸化膜作製用
 ・熱処理、酸化、拡散用