用途:[イオン注入 成膜] 装置一覧

 ・リンおよびホウ素のイオン注入
 ・各種金属膜の堆積
 ・スパッタガス:Ar,O2
 ・ターゲットサイズ:4インチ
 ・金属膜堆積
 
 ・poly-Si堆積
 ・各種金属膜の堆積
 ・4inchターゲット
 ・φ4inch以下の基板対応
 ・金属膜堆積