装置の詳細

 スパッタ装置2 キャノンアネルバ製 E-200S 2010年3月導入

クリーンルーム内 プロセス室
装置仕様
・各種金属膜の堆積
・ロードロック式
・スパッタガス:Ar,N2
・リアクティブスパッタが可能
・磁性体用カソード:有り
・同時スパッタ:可能
・基板回転機構:有り
・逆スパッタ機構:有り
・電源:RF電源2,DC電源1
・基板温度:~300℃
・基板水冷機構:有り
・ターゲットサイズ:2インチ
・基板サイズ:4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形基板
装置利用料金(1時間当たり)
学内利用者 ¥1,500 学外利用者 ¥2,400
 
・オペレーター支援の場合は別途オペレーター料金が必要です。:3,000円/時間 (学内、学外同額)
・使用可能時間は9:00~17:00です。(時間外の利用も相談に乗ります)
備考
Alターゲットのみ貸し出し可能です.共同研究については,共同研究を行っているセンター教員の了解を得て,共同研究先のセンター教員が保有するターゲットを借用することが可能です.それ以外につきましては,各自ターゲットをご用意ください.