装置の詳細

 スパッタ装置1 島津製作所製 HSR-521A

クリーンルーム内 プロセス室
装置仕様
・各種金属膜の堆積
・スパッタガス:Ar,O2
・リアクティブスパッタが可能
・基板温度:室温のみ
・電源:RF電源1
・逆スパッタ機構:有り
・ターゲットサイズ:4インチ
・基板サイズ:4インチウエハ、もしくは、4インチ以内に収まる不定形基板
装置利用料金(1時間当たり)
学内利用者 ¥1,500 学外利用者 ¥2,400
 
・オペレーター支援の場合は別途オペレーター料金が必要です。:3,000円/時間 (学内、学外同額)
・使用可能時間は9:00~17:00です。(時間外の利用も相談に乗ります)
備考
Alターゲットのみ貸し出し可能です.共同研究については,共同研究を行っているセンター教員の了解を得て,共同研究先のセンター教員が保有するターゲットを借用することが可能です.それ以外につきましては,各自ターゲットをご用意ください.