装置の詳細

 両面マスクアライナー ズースマイクロテック製 MA-6 2010年3月導入

クリーンルーム内 フォト室
装置仕様
・g線露光
・対応基板厚≦1.5mm(バキュームコンタクト使用時),≦3.0mm(その他露光コンタクトモード使用時)
・対応マスク厚:0.09″,0.23″(推奨値)
・アライメント可動範囲:X軸±10mm,Y軸±5mm,θ軸±5°
・露光モード:ソフトコンタクト(ウェハの下部から真空を引きウェハを固定しながら、機械的圧力だけでマスクに押しつけるモード)、ハードコンタクト(ウェハの下部より窒素を吹き付け、ウエハをより強くマスクに押しつけるモード)および、バキュームコンタクト(マスクとウェハとの間を真空にして隙間をきわめて小さくできるモード)から選択可能
・プロキシミティ露光(マスクとウェハとの間にギャップを保って露光するモード)が可能
・プロキシミティ・ギャップ範囲:1~300μm(1μmステップで設定可)
・最大露光エリア≦W150mm
・露光タイマー:デジタル式、最大時間999秒、最小目盛り0.1秒
・基板サイズ:Φ4インチSiウェハおよび30mm角基板対応
装置利用料金(1時間当たり)
学内利用者 ¥1,500 学外利用者 ¥2,400
 
・オペレーター支援の場合は別途オペレーター料金が必要です。:3,000円/時間 (学内、学外同額)
・使用可能時間は準備から後片付けまでを含めて9:00〜16:00です。
・光熱費を除く消耗品費用は別途請求させていただきます。
装置利用制限について
単独利用 オペレーターと共に
装置を利用
全てをオペレーターに
委託して利用
クリーンルーム入室試験
および
装置試験の合格者のみ利用可
クリーンルーム入室試験
合格者のみ利用可
制限なし