装置の詳細

 電子線描画装置 JEOL製 JBX-6300 2010年3月導入

クリーンルーム内 フォト室
装置仕様
・最小線幅:8nm以下(フィールド中心、100kV高分解能描画モード)
・重ね合わせ精度、フィールド接合精度:≦±20nm(100kV高分解能描画モード)
・ビーム形状:スポットビーム
・加速電圧:100kV
・ビーム電流:30pA~20nA
・スキャン方式:ベクタスキャン
・基板サイズ:4インチおよび5インチ角フォトマスク、Φ4インチSiウェハ対応
装置利用料金(1時間当たり)
学内利用者 ¥1,500 学外利用者 ¥2,400
 
・オペレーター支援の場合は別途オペレーター料金が必要です。:3,000円/時間 (学内、学外同額)
・使用可能時間は9:00~17:00です。(時間外の利用も相談に乗ります)