装置の詳細

 高速熱処理炉1 ULVAC製 RTP-6 2010年3月導入

クリーンルーム内 プロセス室
装置仕様
・極薄酸化膜形成用
・雰囲気:ガスフロー中、大気中、真空中
・温度範囲:~1000℃
・最大加熱速度:10℃/sec(SiCコート付きカーボンサセプタ使用)
・基板サイズ:4インチ
装置利用料金(1時間当たり)
学内利用者 ¥1,500 学外利用者 ¥2,400
 
・オペレーター支援の場合は別途オペレーター料金が必要です。:3,000円/時間 (学内、学外同額)
・使用可能時間は準備から後片付けまでを含めて9:00〜16:00です。
・光熱費を除く消耗品費用は別途請求させていただきます。
装置利用制限について
単独利用 オペレーターと共に
装置を利用
全てをオペレーターに
委託して利用
クリーンルーム入室試験
および
装置試験の合格者のみ利用可
クリーンルーム入室試験
合格者のみ利用可
制限なし