クリーンルームの概要

 
 Class100〜1000の清浄度を持つ、広さ360m2のダウンフロー型クリーンルームです。
 イオン注入、成膜、酸化、拡散、熱処理、エッチング、描画、露光、現像などの装置を取り揃え、 半導体デバイスの一貫試作ラインを整備しております。
 現在は、半導体以外の微細加工技術の応用試作にも対応可能となっています。

プロセス室

フォト室

エアシャワー